Saat noutopistetoimituksen veloituksetta*, kun tilauksesi arvo ylittää 39 €!
*Koskee yksityisasiakkaiden tilauksia, jotka toimitetaan Suomeen.
|
|

avaa valikko

Chemical Vapor Deposition of Refractory Metals and Ceramics III: Volume 363
29,50 €
Materials Research Society
Sivumäärä: 283 sivua
Asu: Kovakantinen kirja
Julkaisuvuosi: 1995, 05.04.1995 (lisätietoa(avautuu ponnahdusikkunassa))
Kieli: Englanti
CVD (chemical vapor deposition) technology is receiving much interest in the scientific community, in particular for synthesizing new materials with tailored chemical composition and physical properties that offer multiple functionality. Multiphase or multilayered films, functionally graded materials (FGMs), “smart” material structures and nanocomposites are just a few examples of the new classes of materials being produced via CVD. This third volume in the series from MRS offers an interdisciplinary perspective on technological issues relevant to CVD materials and processes, and provides a forum for the exchange of new scientific results. Topics include: fundamentals, modeling and diagnostics; process/microstructure/property relationships; diamond, cubic boron nitride and related materials; organometallic chemical vapor deposition and novel approaches.

LISÄÄ OSTOSKORIIN
Tuotetta lisätty
ostoskoriin kpl
Siirry koriin
Tilaustuote(avautuu ponnahdusikkunassa)
Arvioimme, että tuote lähetetään meiltä noin 1-3 viikossa. | 🎄 Tämä tuote ehtii jouluksi, kun teet tilauksen viimeistään 27.11.2025
Chemical Vapor Deposition of Refractory Metals and Ceramics III: Volume 363
Näytä kaikki tuotetiedot
ISBN:
9781558992641