SULJE VALIKKO

avaa valikko

Ferroelectric Thin films V: Volume 433
29,80 €
Materials Research Society
Sivumäärä: 449 sivua
Asu: Kovakantinen kirja
Julkaisuvuosi: 1996, 08.11.1996 (lisätietoa)
Kieli: Englanti
This book features worldwide advancements that have been made in both the processing technology and fundamental understanding of ferroelectric thin films. There is a strong emphasis on process integration issues and on gaining an enhanced understanding of the behavior of layered structure perovskites for nonvolatile memory applications. The book also addresses the processing of high-dielectric constant thin films for dynamic random-access memory applications, especially by plasma-assisted metalorganic chemical vapor deposition. The development of electrode-processing techniques for improved properties, the role of defects in ferroelectric thin-film degradation, structure-property relationships, domains and size effects in ferroelectric thin films, and the pyroelectric, optical and field effect device applications of these materials are also highlighted. The perspectives of ARPA and ONR on the future of ferroelectric technologies are noted.

Tuotetta lisätty
ostoskoriin kpl
Siirry koriin
LISÄÄ OSTOSKORIIN
Tilaustuote
Arvioimme, että tuote lähetetään meiltä noin 1-3 viikossa.
Ferroelectric Thin films V: Volume 433
Näytä kaikki tuotetiedot
ISBN:
9781558993365


Toimitusehdot


Asiakaspalvelu


YHTEYSTIEDOT


SEURAA MEITÄ

Booky.fi | Kotimainen kirjakauppasi netissä

Löydä seuraava lukuelämyksesi meiltä. Valikoimassamme ovat kaikki kotimaiset kirjat sekä noin 25 miljoonaa ulkomaista teosta.
Toimitamme tilaukset maailmanlaajuisesti!

Tietosuojaseloste